Cristalización de películas delgadas de WO3 sobre sustratos flexibles a temperaturas menores de 200 °C para su implementación en la electrónica flexible.

Resumen no. 2CP21-72

Autores/as

  • Manuel Alejandro Abreu Rodríguez UACJ
  • José Luis Enríquez Carrejo Universidad Autónoma de Ciudad Juárez https://orcid.org/0000-0002-0066-7441
  • Manuel Antonio Ramos Murillo Universidad Autónoma de Ciudad Juárez

Palabras clave:

película delgada; radiación UV; trióxido de tungsteno.

Publicado

2021-11-08

Número

Sección

Coloquio de Posgrados IIT